V-Curve、channeling

https://sst.semiconductor-digest.com/2013/10/how-to-verify-incident-implant-angles-on-medium-current-implants/

The standard production test to determine if the angle of implant is accurate involves implanting 5 to 7 wafers tilted around a theoretical channeling angle, annealing the wafers to activate the implant, and charting the sheet resistance vs. implanted angle to find the channel. This procedure is commonly called a V-curve test.

非公式訳:
イオン注入角度が正確であるかどうかを判定するための標準的生産試験には以下の3つの手順が必要です。この一連の手順を一般に「Vカーブ試験」といいます。

  1. 理論的なチャネリング角度を基準にして傾きを変えた5~7枚のウェーハにイオン注入を行い、
  2. そのウェーハにアニーリング処理を施してイオンを活性化し、
  3. イオン注入角度に対するシート抵抗値の特性をグラフ化してチャネルを見つける。


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訳註:
VはV字のV。横軸に注入角度を、縦軸にシート抵抗値をとった場合にV字型の特性が得られる。そのV字の谷底がチャネルである。

チャネリング(channeling):

  • 結晶軸または結晶面に沿ってイオンを照射すると,大部分のイオンは結晶中の原子核や電子と大きな衝突をせずに結晶内部まで侵入できる。これをチャネリングという。結晶軸に沿ってイオンが侵入するものを軸チャネリング,結晶面に沿って侵入するものを面チャネリングという。(半導体製造装置用語辞典、日刊工業新聞社)
  • 【理】 チャネリング《加速したイオンビームの単結晶への入射方向が結晶軸[面]に平行であるとき, 入射イオンの透過率が顕著に増大する現象》.(リーダーズ+プラス)

ニーリング(annealing)、アニール(anneal):

  • ある反応が起こった後,加熱すると反応物質が再配置されて状態が変わる。金属の場合は「焼鈍」「焼きなます」というが,半導体では「アニール」しかない。(半導体がわかる英語、工業調査会)
  • なお、シリコンにイオン注入しただけでは導電性にはならないので、注入したイオンを活性化するための熱処理(アニール)が必要です。(図解でわかる半導体製造装置、日本実業出版社)
  • さまざまな性質改善の目的で, 鋼, ガラスなどを一度加熱してから徐々にさますこと.(理化学英和辞典)


シート抵抗(sheet resistance):

  • 単位幅,単位長さ当りの薄膜の電気抵抗。薄膜上に二辺が対向する正方形の電極を取付けて測定し,Ω/□で表す。(半導体製造装置用語辞典、日刊工業新聞社)