半導体製造装置用語辞典
p.196
キャリアガス
固体蒸発源でアークを安定に発生させるために用いられるガス。多くの場合キャリアガスでアークを発生させた後，固体蒸発源の温度を上げることにより目的とするイオン種をアークチャンバに導入する。一旦目的とするイオンビームが得られると，アークチャンバへのキャリアガス導入を断つことが多い。
p.398
キャリアガス
半導体製造に使用される特殊材料ガスの濃度調整に用いられるガス。(略～)
半導体製造装置用語辞典
p.196
キャリアガス
固体蒸発源でアークを安定に発生させるために用いられるガス。多くの場合キャリアガスでアークを発生させた後，固体蒸発源の温度を上げることにより目的とするイオン種をアークチャンバに導入する。一旦目的とするイオンビームが得られると，アークチャンバへのキャリアガス導入を断つことが多い。
p.398
キャリアガス
半導体製造に使用される特殊材料ガスの濃度調整に用いられるガス。(略～)