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中電流イオン注入装置（Axcelis Technolgies社製品）
Purion Mは、今後重要となる中電流HALO処理やサブMeV処理に対応しています。また、Purion M SiCオプションでは、業界をリードするAI+ビーム電流と長寿命の独自ソース技術により、150mmウェーハを高温700℃処理することが可能です。 ACLS.OQ - Axcelis Technologies Inc 概要 | Reuters
アクセリス・テクノロジーズ(Axcelis Technologies, Inc.)は半導体チップ製造に使用されるイオン注入装置と他の加工機器の設計、製造及びサービスの提供を行う。【事業内容】同社はまた、中古ツール、スペアパーツ、機器のアップグレード、保守サービス、顧客トレーニングなどのアフターマーケット･ライフサイクル製品とサービスを提供する。同社はすべてのアプリケーション要件に対して高エネルギー、高電流、中電流の注入装置を提供する。同社のPurion XE高エネルギー･システムは、ラジオ周波数（RF）Linac高エネルギー、スポット･ビーム技術とPurionプラットフォームを組み合わせる。同社はまた、Purion M中電流システムを提供する。同社のPurion Mシステムは、ホット･シリコン･カーバイドなどの特殊用途にも差別化をもたらす。同社のPurion H高電流システムは、漏れ電流性能を含む将来のプロセス要件を満たす超低エネルギーアプリケーションに拡張可能である。
