https://www.shi.co.jp/tech/tech_report/pdf/178.pdf
バッチタイプを採用することで、枚葉装置の欠点である高ダメージ,レジストアウトガスによるドーズシフトおよび角度コンタミ問題を避け,安定した注入を提供している。
http://www.jmf.or.jp/japanese/houkokusho/kensaku/pdf/2004/15sentan_07.pdf
PFG を搭載した場合は、PFG プラズマ生成のための供給ガスによるドーズシフトの問題が生ずるが、圧力をモニタしてドーズ量にフィードバックする方法[6]やビームラインに真空排気ポンプを追加して取り付ける方法によりほぼ解決が図られている。
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(略) Both ionization (electron stripping) and neutralization (electron addition) were measured as dose shift (underdose or overdose) using TW and Rs analysis. Depending on the ion species, energy and beam current, chamber pressure rises. The pressure rise could be as high as in the E-4 torr range. If the chamber pressure is kept below 3.0 E-5 torr no observable dose shift could be detected.