http://patentlib.net/mnt/exHDD_4TB/A/2020155001/2020155701/2020155711/2020155712.html, 東京エレクトロン
このため、載置台３１等を貫通するように、ウエハＷの裏面にヘリウムガス等の熱伝達用ガス（バックサイドガス）を供給するためのガス供給管が設けられてもよい。
WO2013108750A1 - 基板載置台及びプラズマ処理装置 - Google Patents, 東京エレクトロン
また、載置台２等を貫通するように、ウェハＷの裏面側にヘリウムガス等の冷熱伝達用ガス（ウェハＷと熱交換する冷却ガス：バックサイドガス）を流通させるためのバックサイドガス供給配管３０が設けられており、このバックサイドガス供給配管３０は、図示しないバックサイドガス供給源に接続される。
